大國文娛 第808章 正確的技術路線

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    良久……

    辦公桌和辦公椅一片狼藉，甚至就辦公電腦，都因為茶杯被撞到，水流進機箱燒毀了主板而報廢。

    好在孟欣的電腦上的材料都有備份，定期會上傳到實驗室的加密的內部存儲服務器中。但的慣用的一台辦公電腦，出現了這種問題，不僅讓蒙欣生氣的將林棋掐的胳膊上青一塊紅一塊。林棋自然是還以顏色，讓她知道，這個世界終究還是男人更厲害。

    「要死啦！真是的，只管自己舒服，不管後果！」在完事後，蒙欣將痕跡擦乾淨，並開始整理衣服，打掃辦公室，說道，「就知道給我添亂，電腦裡面資料，至少是幾個小時勞動成果。算成人民幣，少數幾百萬。」

    「是，是！老婆大人，對不起！」林棋滿足了之後，心情還是不錯的，幫蒙欣收拾混亂的辦公室。

    「知道錯了？」

    「嗯！」

    「這麼放過你，我氣不過！給我重裝一台電腦，別人不許裝忙！」

    「不是吧？老婆大人，直接讓後勤部門送一台新的整機不就好了？」

    「這是懲罰，我樂意！」

    蒙欣打電話給公司實驗室的後勤部門，將報廢的電腦拿出去看看能不能修理恢復數據，不能的話，報廢的電子元件也不能外流，而是通過物理手段銷毀。

    要知道，即使是報廢的電腦，裡面也可能殘留一些重要的資料，為了避免流失，重要的科研機構，最好是將硬盤之類的重要存儲硬體給銷毀。當然了，為了管理更完善，其他部件也不能外流。

    之後，林棋在蒙欣的脅迫下，跟她一起組裝新的辦公電腦。原本，可以送整機過來的，但是蒙欣為了懲罰林棋，所以，讓人送硬體過來，之後，開始指揮林棋，將硬體組裝起來。遇到林棋笨手笨腳的樣子，蒙欣通過嘲諷來獲得愉悅。

    也多虧林棋脾氣好，要不然真的會翻臉。

    苦逼的拿著裝機手冊，在孟欣的笑話中，開始將這個年代頂級配置的辦公電腦裝好了。雖然，是不可能跟21世紀的電腦相比，但是已經是這個年代辦公電腦的頂配。

    雖然，裝機的過程已經不斷的優化，已經很照顧小白了。但是，林棋還是覺得真尼瑪的累人，所以，也打算回去繼續讓公司簡化下一代盤古電腦的裝機。不需要任何技術，不需要任何經驗，都可以快速安裝，才是王道。

    忙完了之後，蒙欣噗嗤一笑，給林棋擦汗，說道：「老公，辛苦了，看你累的。」

    「累個屁，不累！」林棋一語雙關，「不服的話，再戰第二回合。」

    由於憋了幾個月，讓林棋感覺自己比以往要神勇的多。

    「去你的！」蒙欣白了他一眼，說道，「我還有忙不完的事情呢，以為我跟你一樣，越老越不正經。」

    ……

    國產0.5微米光刻機雖然已經研發成功，但是為了避免打草驚蛇，所以，暫時並未準備大張旗鼓的在新聞上進行宣傳。

    而且，在技術上也是遮遮掩掩，避免更快是被競爭對手了解技術方向。

    反正現階段，0.5微米的光刻機，也不需要對外出售。

    現階段，林蒙科技公司盈利模式，一方面是專利費，另外一方面則是光刻機。在專利數量方面，林蒙科技看起來不如新創業電子，一年也就註冊一千多個國際專利，國內專利每年註冊數量也不超過3000個。各種外觀專利和一些應用專利，林蒙科技公司都不屑於註冊，註冊的基本上都是一些技術含量非常高的核心科技。

    比如，現在的0.5微米光刻機，就不是模仿現在的光刻機廠商的主流技術，而是應用了90年代還未普及的新技術，沉浸式光刻技術。

    用沉浸式光刻技術來做0.5微米的光刻機，也就是500納米，有點殺雞用了牛刀的感覺，但是如果現在不用的話，以後這些專利可能會被別人註冊。所以，即使殺雞用了牛刀，也先提前占坑！

    光刻機在60年代開始問世，一開始是接觸式光刻機、接近式光刻機，到70年代逐漸升級到了投影式光刻機，使得半導體工藝水平，逐漸開始代表人類最精密的加工工藝水平。到1980年代，光刻機再度升級到了步進式光刻機和步進式掃描光刻機。

    每一次技術突破，都會使得半導體製造行業出現技術方向的選擇。而選對的方向，自然是贏家通吃，而選錯了方向，未來會因為技術落後，在利潤更高的高端光刻機市場，失去自己的市場份額

    在80年代，歐美日等等國家擁有超過百家以上的企業，都是具備能力研發和生產光刻機的，甚至，就連東德曾經也是光刻機市場上的供應商。

    而進入90年代之後，大量的光刻機廠商開始掉隊落後。歐洲的asml在90年代初，市場占有率也不是那麼高，甚至技術也不是太先進。真正讓這家公司爆發，則是後來2002年，率先採用了193nm浸入式光刻機。一開始，193nm浸入式光刻機並未真正的領先，一直到2004年，才是利用193nm浸入式光刻機，做到了90納米加工精度。隨後，漸漸的突破65納米、40納米、28納米，讓非浸入式光刻機望塵莫及！

    尤其是，28納米時代，更是讓非浸入式光刻機廠商絕望，甚至，已經放棄了繼續研發投入，因為，不可能追趕浸入式光刻機。

    也正是因為在關鍵性的技術節點上，選對了方向。所以，asml公司在21世紀初，獨霸光刻機市場。

    而佳能和尼康等等競爭對手，後來廢了老大的勁，也很製造28納米級別精度的光刻機，更何況，asml公司並未停止進步，反而不斷將精度從28納米之後，繼續向20納米、14納米、12納米、10納米、7納米，不斷的提升。

    其他的光刻機廠商，後來跟asml的差距逐漸被拉大到十年以上。除非等到asml專利過期，並且，未來工藝水平會長期停滯，否則，被技術差距被拉大到十年以上的程度的業界同行，基本沒有可能搶回市場。

    而這次推出的光刻機，雖然工藝水平僅達到0.5微米，給侵入式光刻機技術丟人了，但是，寧可殺雞用牛刀，也不能讓技術路線的主導權，被別的廠商占了坑。

    侵入式光刻機問世後，一直是所有的對手都束手無策，只好眼睜睜的看著一家公司壟斷市場。可見，這個技術路線在未來幾十年來，代表著正確的方向。未來一直到5納米時代，技術路線上都是在2002年的技術路線上修補。

    甚至可預見的未來，納米時代終結之前，這個技術是無敵的。只有納米時代之後，進入理論上存在的皮米級工藝時代，可能才會換成其他的技術路徑。但是1納米還不知道什麼時候能達到，更別說，終結了納米之後的皮米時代，有生之年能不能來臨還是未知數。

    至少，在林棋和蒙欣所知的未來，人類對於材料的加工工藝精度，還未突破1納米。

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